978-620-2-50251-1

Poprawa efektywności tworzenia obrazu fotograficznego

MONOGRAFIA

Regular price
€26,90
Sale price
€26,90
Regular price
Sold out
Unit price
per 
Shipping calculated at checkout.

Summary:

MECHANIZM KSZTAŁCENIA SZKOŁCENIA FOTOGRAFICZNEGO WYDAJNOŚĆ: Monografia/ A.Yu. Akhmerov - Düsseldorf: LAP LAMBERT Academic Publishing GmbH & Co.KG, 2020. - – 79 c. .Za pomocą metody luminescencyjnej autor zbadał i uzasadnił nowy - "izolacyjny" - mechanizm superczulenia halogenowo-srebrowych fotomateriałów (HF) przez związki hydrofobowe. Monografia składa się ze wstępu, czterech rozdziałów i konkluzji. Rozdział pierwszy zawiera krótki literacki przegląd wyników badań nad wpływem pól elektrycznych na wrażliwość fotomateriałów oraz przedstawia teorię jonizacji półprzewodników. Rozważane są kwestie zwiększenia skuteczności działania uczulenia widmowego na HF. W drugim rozdziale opisano eksperymentalne ustawienie i technikę pomiaru widm luminescencji halogenków srebra. W rozdziale trzecim przedstawiono wyniki badań nad luminescencją elektroluminescencyjną halogenków srebra oraz ich omówienie. W rozdziale czwartym opisano wyniki badań nad mechanizmem "izolacji" superczulenia na HF. Wnioski z badania zostały przedstawione we wnioskach.

Author:

ALEXANDER YURIEVICH AHMEPOB

Biographie:

Dr Alexander Akhmerov, szef laboratorium. Sekretarz naukowy. Starszy badacz w Instytucie Badawczym Fizyki Odeskiego Uniwersytetu Narodowego imienia I.I. Mechnikova.

Author:

Vitaliy Mikhailovich Belous

Biographie:

Number of Pages:

64

Book language:

Polish

Published On:

2020-05-26

ISBN:

978-620-2-50251-1

Publishing House:

Wydawnictwo Nasza Wiedza

Keywords:

halogenki srebra, fotoluminescencja, luminescencja elektroluminescencyjna, wrażliwość na światło, związki hydrofobowe

Product category:

SCIENCE / Electricity